Terobosan Chip 5nm SMIC di Tengah Sanksi AS

Jadi gini, sob, SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation), perusahaan chip terbesar di China, lagi jadi sorotan. Kabarnya, mereka berhasil memproduksi chip canggih dengan fabrikasi 5 nanometer (nm) tanpa mesin litografi ekstrem ultraviolet (EUV) yang super mahal dan canggih itu. Padahal selama ini, mesin EUV tuh kayak kunci utama buat bikin chip sekelas ini. Kayak bikin mie instan tanpa air panas, susah kan? Tapi, SMIC bisa!

Kendala Akses Teknologi EUV

Masalahnya emang di situ. Akses ke teknologi EUV ini nggak gampang. Amerika Serikat dan sekutunya getol banget ngebatasin ekspor teknologi ini ke China. Tujuannya jelas, buat nahan laju perkembangan teknologi China. Bayangin deh, kamu udah punya resep rahasia, eh, bahan utamanya malah dilarang dijual. Kan, repot.

Strategi Alternatif: DUV dan SAQP

Nah, di sinilah keliatan pintarnya mereka. Alih-alih nyerah, SMIC malah putar otak dan nemuin cara lain. Mereka manfaatin teknologi litografi lama yang namanya deep ultraviolet (DUV). Tapi, nggak cuma itu aja. Mereka juga gabungin teknologi DUV ini sama metode yang dinamakan Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP). Ribet? Banget! Tapi hasilnya? Bikin geleng-geleng kepala.

Bagaimana SMIC Mencapai Fabrikasi 5nm Tanpa EUV?

Oke, sekarang kita bedah dikit gimana SMIC bisa ngakalin keadaan ini. Jadi, mereka nggak pake cara yang “biasa” alias EUV. Mereka justru milih jalan yang lebih “ribet” tapi ternyata efektif. Emang sih, katanya metode ini lebih mahal dan rawan kesalahan. Tapi, ya namanya juga usaha, kan?

Penjelasan Analis Semikonduktor William Huo

Menurut analis semikonduktor William Huo, yang ngebongkar ini di Twitter (sekarang X), SMIC tuh jago banget manfaatin teknik multi-patterning ekstrem berbasis DUV. Intinya, mereka berusaha “meniru” kemampuan EUV, meskipun caranya lebih kompleks.

Teknik Multi-Patterning Ekstrem Berbasis DUV

Gampangnya gini, teknik multi-patterning tuh kayak ngegambar pola rumit di wafer chip, tapi dilakuin berkali-kali. Tujuannya biar hasilnya sepresisi mungkin, mendekati hasil cetakan EUV. Prosesnya melibatkan banyak tahapan litografi dan etsa (etching), dan butuh akurasi dan kesabaran tingkat dewa. Ya, kayak ngelukis mural gede, tapi kuasnya kecil banget.

Implikasi dan Tantangan

Terus, apa artinya semua ini? Buat China, ini jelas jadi bukti bahwa mereka nggak gampang nyerah di bawah tekanan. Mereka bisa nemuin jalan keluar kreatif di tengah keterbatasan. Ini juga nunjukkin bahwa sanksi dan larangan nggak selalu efektif buat nahan inovasi.

Tapi, jangan salah paham dulu. Keberhasilan ini bukan berarti China udah sepenuhnya “merdeka” dari teknologi asing. Proses fabrikasi 5nm pake DUV dan SAQP ini jelas lebih mahal dan rumit daripada pake EUV. Ini juga berarti kapasitas produksi mereka mungkin nggak sebesar negara-negara yang udah punya akses ke EUV. Jadi, masih banyak tantangan yang harus dihadapi.

Eh, ngomong-ngomong soal tantangan, ini juga jadi pukulan telak buat negara-negara yang selama ini “menguasai” teknologi chip. Mereka jadi harus mikir keras, gimana caranya tetep unggul di tengah persaingan yang makin ketat ini. Seru kan?

Buat kita sebagai konsumen, mungkin belum kerasa dampaknya secara langsung. Tapi, jangka panjangnya, ini bisa bikin harga chip lebih kompetitif dan inovasi di dunia teknologi makin ngebut. Ya, walaupun kadang bikin tambah bingung juga sih, karena teknologi makin canggih dan kompleks. Intinya sih, persaingan ini bagus buat kita semua.

Jadi, gimana menurut kamu? Apakah ini beneran terobosan besar buat China? Atau cuma sekadar trik buat bertahan hidup di tengah sanksi? Apapun itu, yang jelas, ini nunjukkin bahwa dunia teknologi emang dinamis banget dan penuh kejutan. Yang penting, kita tetep update dan jangan ketinggalan berita! Dan siapa tahu, dengan adanya persaingan ini, kita bisa nikmatin teknologi yang lebih canggih dan murah di masa depan. ***